先进的光刻

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啤酒科学& Lithography

啤酒科学Lipregraphic Products自1981年以来一直在塑造半导体行业。多年来,新产品线,能力和规范得到了改进,为客户提供最佳表现。专注于提高质量和制造业效率,我们已成为下一代光刻材料的转移供应商。

光刻 - 微芯片

防反射涂层

抗反射涂层原始底部抗反射涂层(BARCS),弧形防反光涂层继续是光刻期间反射控制和光吸收的行业基准。

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多层系统

多层系统与我们专有的OptiStack®光学建模系统结合使用,以实现最佳分辨率,可以使用193-NM浸入式光刻来实现最佳分辨率。

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极端紫外线(EUV)

EUV.协助底层,使EUV光刻胶和流程更快地发展

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世界级制造业

酿酒商科学已经将资源和投资投入到达和实现客户目标所必需的制造业。我们的许多洁净室环境下达10级帮助,为制造提供最干净和最纯净的环境。在这些洁净室内,我们已经建立了利用最先进的软件来自动化和监控我们的流程的闭环系统。

优质产品质量

我们产品改进的投资不仅仅是在制造产品中停止,而是继续进入我们的质量控制,质量工程,分析和应用程序组。多年来,我们改善了我们的材料的测试,下降到每万亿(1个PPT),并正在努力实现每千分之二(1 PPQ)结果。要做到这一点,我们使用,并继续投资领先的边缘分析和工艺设备。

为什么需要先进的光刻?

电子时代的所有惊人的进步都是由Moore的法律启用的。这种持续的集成电路小型化的法律是直接由技术驱动确定我们可以通过先进的光刻创建模式的尺寸和密度。

什么是光刻术?

光刻是使用光传递几何图案的过程从光掩模到基板上的光敏化学品。这些图案是构成每个半导体器件的电路的内容。该过程通常由一系列化学沉积,图案化的曝光和选择性去除来组成,以通过层在基板层上产生所需的特征。

先进光刻的未来

虽然摩尔定律的速度降低了,但前端芯片处理中的光刻仍然存在未来。新材料需要能够承受更高的温度处理以与用于堆叠的化学气相沉积(CVD)层兼容。

啤酒科学是下一代材料创新的最前沿帮助继续前端处理可预见的未来。

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