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防反射涂层

®防反射涂层是光刻期间反射控制和光吸收的工业基准。

作为原始底部抗反射涂层(BARC),弧形®防反射涂层继续是光刻期间反射控制和光吸收的行业基准。我们经过验证的抗反射涂层系列从传统的365-NM(I-LINE)工艺一直跨越尖端的193-NM浸没过程。弧®以其可定制的过程窗口,广泛的光刻胶兼容性和基准模式保真而闻名。

曾经被认为是利基技术,弧形®材料迅速加入了整个20世纪80年代和1990年代的光刻处理主流,现在被认为是每次暴露步骤的一个组成部分。

193纳米材料

Bruwer Science提供了该行业中最多多样化的193纳米条,拥有超过50种材料。我们的193纳米BARCS设计有光刻师兼容性和过程灵活性,以及​​许多提供可调光学性能,可进一步进行自定义。

DUV和I线材料

尽管尖端光刻已经移动到更短的波长,I-Line(365-nm)和深紫外(Duv,或248纳米)光刻继续是IC制造过程的许多关键步骤的工业工作室。此外,许多是物联网的一部分的设备是使用这些遗留过程创建的。 Brewer Science维护Duv和I-Line防反射涂层的完整目录,以满足所有这些需求。

为什么我们需要反射涂料

在弧之前®IC制造商于1981年引入了材料,在暴露步骤期间,IC制造商面临来自底层基质的反射造成的挑战。高反射基板(通常是抛光的硅晶片)将导致从暴露回到光致抗蚀剂中的光,导致诸如驻波和反射凹陷的现象。这些缺陷可能会破坏光刻胶中图案的保真度。 Brewer Science介绍了Arc®防反射涂层,以减轻这些反射,并允许几十年来的IC特征尺寸的持续减少。没有推出弧®材料,驱动现代电子设备的纳米级电路是不可能的。