蛋白质®B3涂料

碱性保护涂层

蛋白质®B3涂层薄膜是旋涂的聚合物涂层系统,其在碱性或酸蚀刻期间为CMOS MEMS电路提供临时湿法蚀刻保护。蛋白质®B材料提供碱性解决方案的保护,例如KOH和TMAH,用于延长浴蚀刻。

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用蛋白质®B3涂层,您可以:

  • 在背面散装微型加工过程中保护精致的前侧电路
  • 通过最小化碱性蚀刻溶液穿过湿蚀刻引起的前侧损伤来增加产量
  • 通过减少与机械夹具相关的劳动力和处理时间来提高吞吐量,并增加每个蚀刻浴的晶片数量

涂protek.®B3涂层代替机械夹具:

  • 保护CMOS电路或MEMS结构
  • 最后创造罪膜
  • 创建通过硅通孔(TSV)